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                远源等离子◎溅射系统

                发布时间:2018-06-23  浏览次数:2448

                远源等离子◣溅射系统不同与射频磁控溅@射系统,它是通々过靶材远处产生高密度等离子体@ 完成溅射的。等离子ω体经PLS出口的发射电磁线圈放大,并由汇聚线圈完成等离子方向的汇聚与控制,覆盖靶材表面。靶面通过施加负偏压,在表面形成高密度※电流,靶材得到均匀的刻蚀,相对于常规磁控溅射,减少了靶中毒的♀现象,对非ω 金属薄膜提高了沉积速率。同时可在靶材上施加直流偏压,用于溅射绝缘靶材。


                                                                          



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